|
Кількість
|
Вартість
|
||
|
|
|||
|
|
|||
Пінка для очищення шкіри IUNIK Centella Mild Cleansing Foam очищає, заспокоює, допомагає усунути запалення, при цьому не подразнює шкіру.
Засіб містить 49,9% екстракту центелли азіатської, яка заспокоює та регенерує шкіру, має протизапальну дію.
Саліцилова кислота (0,2%) регулює жирність шкіри, бореться з висипаннями та акне.
Пантенол зволожує, пом'якшує шкіру та стимулює регенерацію.
Дія:
- очищає шкіру від залишків макіяжу та забруднень
- заспокоює та пом'якшує шкіру
- має антибактеріальну та протизапальну дію
- допомагає усунути висипання та акне
- сприяє швидкій регенерації шкіри
Пінка має низький рівень pH (5,5), завдяки чому не порушує шкірний бар'єр.
Найкраще підходить для комбінованої, жирної, проблемної шкіри.
Спосіб використання:
Змочіть руки і спіньте засіб у долонях, після чого нанесіть піну на сухе обличчя, помасажуйте хвилинку та змийте теплою водою.
Використовуйте для ранкового вмивання як самостійний засіб та ввечері як другий етап очищення (після демакіяжу).
Склад:
Centella Asiatica Extract, Sodium Cocoyl Isethionate, Glycerin, Water, Sodium Cocoyl Glyci-nate, Coco-Betaine,1,2-Hexanediol, Pinus Sylvestris Leaf Oil, Allantoin, Panthenol,Triticum Vulgare (Wheat) Sprout Extract, Brassica Oleracea Italica (Broccol) Extract, Brassica Oleracea Capitata (Cabbage) Leaf Extract, Medicago Sativa (Alfalfa) Extract, RaphanusSativus (Radish) Seed Extract, Bracsica Campestris (Rapeseed) Extract Sodium Methyl Cocoyl Tau rate, Glycer-Stearate, Stearyl Alcohol, Sodium Chloride, Hydrogenated Coconut Add, Butylene Sodium Isethionate, Polyquatemium-67, Caprylyl Glycol, Pentylene Glycol, Salicylic Acid, Hy-d roxyacetophenone,Arachidyl Alcohol, Cetyl Alcohol Disodium EDTA.